在實踐中，經常是使用混合乳化劑的剪切混合乳化機比使用單一乳化劑的更穩定，混合表面活性劑的表面活性比單一表面活性劑往往要優越得多。

基于上述兩段得討論，可以得出這樣得結論：降低體系得界面張力，是使剪切混合乳化機體系穩定的必要條件：而形成較牢固的界面膜是剪切混合乳化機穩定的充分條件。降低體系得界面張力，是使剪切混合乳化機體系穩定的必要條件：而形成較牢固的界面膜是剪切混合乳化機穩定的充分條件。

電效應的穩定理論對剪切混合乳化機來說，若乳化劑是離子型的表面活性劑，則在界面上，主要由于電離還有吸附等作用，使得剪切混合乳化機的液滴帶有電荷，其電荷大小依電離強度而定；而對非離子表面活性劑，則主要由于吸附還有摩擦等作用，使得液滴帶有電荷，其電荷大小與外相離子濃度及介電常熟和摩擦常數有關。帶電的液滴靠近時，產生排斥力。

使得難以聚結，因而提高了剪切混合乳化機的穩定性。

帶電的液滴靠近時，產生排斥力。使得難以聚結，因而提高了剪切混合乳化機的穩定性。剪切混合乳化機的帶電液滴在界面的兩側構成雙電層結構，雙電層的排斥作用，對剪切混合乳化機的穩定有很大的意義。雙電層之間的排斥能取決于液滴大小及雙電層厚度電層之間的排斥能取決于液滴大小及雙電層厚度1/κ，還有ξ電勢(或電勢φ0)。

當無電介質表面活性劑存在存在時，雖然界面兩側的電勢差ΔV很大，但界面電位ΔV很大，但界面電位φ0卻很小，所以液滴能相互靠攏而發生聚沉，這對剪切混合乳化機很不利。

當有電解質表面活性劑存在時，令液滴帶電。O/W型的剪切混合乳化機多帶負電荷；而W/O型的多帶正電荷。這時活性劑離子吸附在界面上并定向排列，以帶電端指向水相，便將反號離子吸引過來形成擴散雙電層。

具有較高的O/W型的剪切混合乳化機多帶負電荷；而W/O型的多帶正電荷。這時活性劑離子吸附在界面上并定向排列，以帶電端指向水相，便將反號離子吸引過來形成擴散雙電層。具有較高的φ0及較厚的雙電層，而使剪切混合乳化機穩定。

若在上面的剪切混合乳化機中加入大量的電解質鹽，則由于水相中反號離子的濃度增加，一方面會壓縮雙電層，使其厚度變薄，另一方面他會進入表面活性劑的吸附層中，形成一層很薄的等電勢層，此時，盡管電勢差值不便，但是剪切混合乳化機中加入大量的電解質鹽，則由于水相中反號離子的濃度增加，一方面會壓縮雙電層，使其厚度變薄，另一方面他會進入表面活性劑的吸附層中，形成一層很薄的等電勢層，此時，盡管電勢差值不便，但是φ0減小，雙電層的厚度也減薄，因而剪切混合乳化機的穩定性下降。